证券之星消息,根据天眼查APP数据显示拓荆科技(688072)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种半导体装置及半导体加工工艺方法”,专利申请号为CN202211420787.8,授权日为2026年6月26日。
专利摘要:本发明提供了一种半导体装置及半导体加工工艺方法,涉及半导体加工技术领域,所述半导体装置包括:反应腔室;加热盘,设于所述反应腔室内;所述加热盘上开设有吸附孔;前级管道,顶端与所述反应腔室连通,底端与真空泵连接;真空吸附管路,包括第一至第三连接管路;所述第一至第三连接管路分别连通所述加热盘、所述前级管道的顶端和底端。这样,通过对所述第一至第三阀门的逻辑控制,使所述第一至第三阀门在时序控制下转动,以切换所述第一至第三连接管路导通或阻断状态,从而将真空吸附管路中的残留气体完全排空,提升真空吸附效果、降低晶圆吸附不牢靠而掉落的现象、减少产品错误率和能源浪费。
今年以来拓荆科技新获得专利授权14个,较去年同期减少了44%。结合公司2025年年报财务数据,2025年公司在研发方面投入了7.7亿元,同比增1.8%。
通过天眼查大数据分析,拓荆科技股份有限公司共对外投资了11家企业,参与招投标项目106次;财产线索方面有商标信息110条,专利信息731条,著作权信息32条;此外企业还拥有行政许可39个。
数据来源:天眼查APP
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