国家知识产权局信息显示,上海新昇半导体科技有限公司申请一项名为“一种半导体高温反应腔的温度偏差校准方法”的专利,公开号CN121781120A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本申请提供一种半导体高温反应腔的温度偏差校准方法,属于半导体制造工艺技术领域。该方法包括:在基准半导体高温反应腔中,使用多个同源半导体衬底在不同基准温度下进行薄膜生长,并测量其形变量变化值,以建立温度‑形变量变化值的基准数学模型;随后,在待校准半导体高温反应腔保持工艺温度的状态下,将一同源测试半导体衬底置入并在目标工艺温度下进行薄膜生长,测量其形变量变化值并代入基准数学模型,计算出等效工艺温度;通过比较等效工艺温度与目标工艺温度,确定温度偏差。该方法利用同源半导体衬底作为温度传感媒介,实现了在不中断生产、不损伤设备前提下的精准校准,有效解决了传统校准方法导致的产能损失和硬件损伤问题。
天眼查资料显示,上海新昇半导体科技有限公司,成立于2014年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本238000万人民币。通过天眼查大数据分析,上海新昇半导体科技有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目2078次,财产线索方面有商标信息14条,专利信息762条,此外企业还拥有行政许可225个。
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来源:市场资讯