国家知识产权局信息显示,上海御微半导体技术有限公司申请一项名为“掩模版检测装置及检测方法”的专利,公开号CN121785040A,申请日期为2025年11月。
专利摘要显示,本申请提供一种掩模版检测装置及检测方法,涉及光学检测领域,该装置包括承载结构和至少两对夹持组件,承载结构用于承载掩模版并可安装在运动台跟随运动台移动,至少两对夹持组件设置于承载结构相对侧端,任一对夹持组件包括相对的第一夹持组件和第二夹持组件,第一夹持组件包括第一驱动组件和第一支臂,第一支臂上设有两个接触部,第二夹持组件包括第二驱动组件和第二支臂,第二支臂上设有一个接触部,以在夹持掩模版时使对应支臂上的接触部接触所述掩模版以形成三点定位。本申请对掩模版的侧端进行夹持以定位,可缓解由于机械夹爪夹持掩模版的表面导致损伤,还可通过旋转承载结构,开合对应的夹持组件以实现快速换边检测,检测效率相对较高。
天眼查资料显示,上海御微半导体技术有限公司,成立于2019年,位于上海市,是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本31200万人民币。通过天眼查大数据分析,上海御微半导体技术有限公司参与招投标项目43次,财产线索方面有商标信息45条,专利信息102条,此外企业还拥有行政许可15个。
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来源:市场资讯