国家知识产权局信息显示,杭州玖璋芯科技有限责任公司申请一项名为“一种半导体光放大器”的专利,公开号CN122739907A,申请日期为2026年7月。
专利摘要显示,本发明涉及光通信技术领域,公开了一种半导体光放大器,其包括基底(1),bex层(2),基底(1)上设有用于调控光场限制因子的bex层(2),过度层(3),在bex层(2)上设有过度材料组成的过度层(3);量子阱层(4),过渡层上设有四元化合物材料组成的量子阱层(4);脊波导层(5),量子阱层(4)上设有脊波导层(5)。本发明设计的半导体光放大器其结构通过bex层主动控光、过渡层缓冲缺陷、脊波导层优化集成结构,实现了低损耗、高功率转换效率、易集成的半导体光放大器,且提高了放大增益。
天眼查资料显示,杭州玖璋芯科技有限责任公司,成立于2025年,位于杭州市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本111.111111万人民币。通过天眼查大数据分析,杭州玖璋芯科技有限责任公司。
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