派尔新材等申请用于半导体的光刻掩膜版保护膜及其制备方法专利，能提升光刻图形的精度_电池技术

派尔新材等申请用于半导体的光刻掩膜版保护膜及其制备方法专利，能提升光刻图形的精度

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2025-06-28 17:09:24

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金融界 2025 年 6 月 28 日消息，国家知识产权局信息显示，广东派尔新材料科技有限公司、圣迈恩特新材料技术（深圳）有限公司申请一项名为“一种用于半导体的光刻掩膜版保护膜及其制备方法”的专利，公开号 CN120215203A，申请日期为 2025 年 05 月。

专利摘要显示，本申请涉及半导体保护膜领域，公开一种用于半导体的光刻掩膜版保护膜及其制备方法。一种用于半导体的光刻掩膜版保护膜由以下重量份的原料制得：聚全氟乙丙烯分散液 20‑30 份、聚四氟乙烯分散液 18‑28 份、耐热剂 12‑20 份、抗静电剂 4.5‑8.5 份、抗氧化剂 1‑3 份；耐热剂由全氟辛基乙基丙烯酸酯、烯基苯基类缩水甘油醚、溶剂和催化剂反应制得；制备方法：S1、将各组分混合均匀，制得分散液；S2、将分散液流延成膜并干燥。本申请制得的保护膜应用于半导体光刻工艺中，具有较好的耐光热性，抗静电性和透光率，能够对掩膜版起到较好的防护作用，同时提升光刻图形的精度。

天眼查资料显示，广东派尔新材料科技有限公司，成立于2016年，位于东莞市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1428.58万人民币。通过天眼查大数据分析，广东派尔新材料科技有限公司参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息26条，此外企业还拥有行政许可6个。

圣迈恩特新材料技术（深圳）有限公司，成立于2024年，位于深圳市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，圣迈恩特新材料技术（深圳）有限公司专利信息1条，此外企业还拥有行政许可2个。

来源：金融界

企业方法信息派尔导体新材保护膜图形查大专利圣迈恩特分散液半导体掩膜

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