中微半导体取得半导体处理设备专利，提高反应腔的维护效率
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2025-07-08 11:39:25
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金融界2025年7月8日消息，国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司取得一项名为“一种半导体处理设备”的专利，授权公告号CN223079079U，申请日期为2024年08月。
专利摘要显示，本实用新型公开一种半导体处理设备，包括：反应腔，其包括腔体和设置于所述腔体顶部的腔盖；所述反应腔的内部空间分为多个反应单元；基座，设置于每一所述反应单元内，用于承载基片；维护口，设置于所述腔体的侧壁上并贯穿所述腔体的侧壁的内表面和外表面；且通过所述维护口执行清洁所述反应单元及所述基座的动作；密封板，位于所述维护口的外侧，与所述腔体的侧壁固定连接，用于打开或关闭所述维护口。
天眼查资料显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司，成立于2004年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本62236.3735万人民币。通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目66次，财产线索方面有商标信息76条，专利信息1493条，此外企业还拥有行政许可76个。
来源：金融界
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