东阳光申请化成箔及其制备方法和电解电容器专利，降低氧化膜缺陷密度
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2026-07-11 23:11:16
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国家知识产权局信息显示，东莞东阳光科研发有限公司申请一项名为“化成箔及其制备方法和电解电容器”的专利，公开号CN122370191A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本申请提出了化成箔及其制备方法和电解电容器，所述化成箔包括：化成箔基体；渗透层，所述渗透层设置于所述化成箔基体的至少一侧表面；氧化膜，所述氧化膜设置于所述渗透层远离所述化成箔基体的一侧表面；其中，所述渗透层含有非金属元素，沿所述氧化膜向所述化成箔基体方向，所述渗透层中所述非金属元素含量递减。通过在箔材化成处理之前引入等离子电解渗处理，形成渗透层，优化了箔材表层的微观结构与化学成分，降低氧化膜缺陷密度，改善氧化膜均匀性，降低裂纹产生概率，降低界面剥离风险，降低漏电流。由此，提升了化成箔的比容、耐压性和耐水合性。
天眼查资料显示，东莞东阳光科研发有限公司，成立于2011年，位于东莞市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，东莞东阳光科研发有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目176次，专利信息558条，此外企业还拥有行政许可11个。
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来源：市场资讯
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