EDA工具被视为芯片之母，因为如今的芯片都高度复杂，在设计方面早已引入EDA工具对芯片进行设计；芯片代工企业如台积电等也是依赖EDA工具提供的数据对芯片进行生产，因此EDA工具对于芯片的重要性不言而喻。

美国企业则垄断着EDA工具，全球前两大EDA工具企业分别是美国的新思科技、Cadence，第三大企业则是西门子EDA，而西门子EDA其实当初也是收购美国企业而来，他们合计占有EDA市场超过八成的市场份额。

但是几年前，美国却限制中国一些企业以及研发机构使用EDA，由此中国芯片行业认识到美国诸多技术都不可靠，说不让用就不让用，谁知下一个是不是支持，由此国产芯片企业纷纷以国产的EDA工具替代。

经过数年的努力，国产EDA工具逐渐获得认可，甚至连台积电也开始采用中国大陆的EDA工具，凸显出国产EDA工具在快速替代美国的EDA工具，这正不断推动着中国EDA工具的技术发展，让美国的EDA企业蒙受了巨额的损失。

日前新思科技公布的收入就显示中国市场为它贡献的收入比例已从高峰期的20%下滑至15%，Cadence从中国市场获取的收入比例则从15%跌至10%以下，印证了中国芯片EDA工具确实在替代这些美国的EDA工具。

这几年在美国的压力下，中国芯片产业链都在快速发展，加速完善，在诸多方面都以国产芯片设备、国产材料替代，除了EDA工具之外，光刻胶、刻蚀机、晶圆等都取得了长足的进展，增强了国产芯片产业的自主研发实力。

今年下半年国内一家存储芯片企业就传出已建成了一条完全采用国产芯片设备的生产线，之前它曾因美国的影响而导致已采购的ASML光刻机在使用中面临一些问题，凸显出中国芯片产业链的完善速度快得惊人。

当然存储芯片能完全采用国产芯片设备，在于存储芯片考虑到可靠性等问题而一直在10纳米以上工艺，而国产芯片产业链恰恰能提供这样的设备，由此实现了全国产化的芯片生产线，这也推动了国产芯片设备企业的收入连连实现高速增长。

针对难以获得EUV光刻机这个难题，中国芯片制造企业则创造性地开发出多重曝光技术，用现有的光刻机生产出接近7纳米的工艺，知名的浸润式光刻机之父林本坚认为中国芯片行业甚至能依靠现有的浸润式光刻机开发出接近5纳米的工艺，而中国芯片行业也在朝着这样的方向努力。

中国芯片行业正在将美国的压力变成动力，加速推进技术研发，而获得更多的收入也确实助推了技术研发进程，由此各方面的技术都在快速突破，包括美国企业在内的诸多西方芯片设备企业则因此蒙受了巨额的损失，美国恐怕没有想到它遏制中国发展先进芯片的图谋非但没能实现，还加速了中国芯片产业的技术升级，造成搬起石头砸自己的脚的后果。