拓亚半导体申请基于偏振光成像的半导体晶圆应力分布测量系统专利，显著提高应力测量精度和空间分辨率
创始人
2025-12-27 16:07:35
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国家知识产权局信息显示，拓亚半导体科技（云南）有限公司申请一项名为“基于偏振光成像的半导体晶圆应力分布测量系统”的专利，公开号CN121215545A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明提供基于偏振光成像的半导体晶圆应力分布测量系统，应用于芯片设计和制程优化领域，系统包括偏振光源模块、晶圆处理模块、多通道光学系统、偏振相位处理模块、数据采集和处理模块及结果可视化模块，其核心创新在于将微分几何理论应用于偏振相位信息处理，通过偏振态流形构建单元将偏振态参数映射到Poincaré球面，计算流形上的局部度量张量；应力－相位映射单元计算联络系数和曲率张量，确定应力分布；多尺度分析单元构建偏振态流形的尺度空间，实现从微观到宏观的应力分布无缝分析，显著提高了应力测量精度和空间分辨率，可同时分析微米和毫米尺度的应力分布。
天眼查资料显示，拓亚半导体科技（云南）有限公司，成立于2023年，位于昆明市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓亚半导体科技（云南）有限公司共对外投资了1家企业，专利信息1条，此外企业还拥有行政许可1个。
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来源：市场资讯
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