日久光电申请低反射膜专利，提高了薄膜的耐候性能_电池资讯

日久光电申请低反射膜专利，提高了薄膜的耐候性能

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2026-01-27 23:19:43

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国家知识产权局信息显示，江苏日久光电股份有限公司申请一项名为“低反射膜”的专利，公开号CN121386054A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明公开了一种低反射膜，所述低反射膜包括依次层叠设置的基材层、高硬涂层、改性涂层和减反射镀层；其中，所述改性涂层为含有实心二氧化硅粒子和空心二氧化硅粒子的丙烯酸树脂层；所述实心二氧化硅粒子的粒径为110nm‑130nm，所述空心二氧化硅粒子的粒径为50nm‑70nm；在所述改性涂层中，所述实心二氧化硅粒子的质量占比为20%‑40%，所述空心二氧化硅粒子的质量占比为0.5%‑5%。本发明通过在改性涂层中添加实心二氧化硅粒子和空心二氧化硅粒子，并控制二者的添加比例和粒径，增强了与减反射镀层之间的附着力，提高了薄膜的耐候性能。

天眼查资料显示，江苏日久光电股份有限公司，成立于2010年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本28106.6667万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏日久光电股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目3次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息236条，此外企业还拥有行政许可16个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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