苏州矩阵光电申请电流传感框架结构及其制备方法专利,提高测量灵敏度
创始人
2026-02-04 13:45:58
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国家知识产权局信息显示,苏州矩阵光电有限公司申请一项名为“一种电流传感框架结构及其制备方法”的专利,公开号CN121431931A,申请日期为2025年12月。

专利摘要显示,本申请涉及一种电流传感框架结构及其制备方法,包括衬底和设置在衬底上的电流传感组件;电流传感组件包括沿远离衬底的方向上依次层叠设置的第一聚磁层和电流排结构,在第一聚磁层的两侧均设有磁敏芯片,磁敏芯片与第一聚磁层的侧边之间不存在间隔,位于第一聚磁层两侧的磁敏芯片形成了差分结构,磁敏芯片设置在衬底上;电流排结构包括层叠设置的至少两层电流层,至少两层电流层在水平方向上的宽度小于或等于第一聚磁层在水平方向上的宽度,电流层为片状结构,呈片状结构的电流层的延伸方向与水平方向互相垂直,利用本申请提供的技术方案能够在增加测量量程的同时,提高测量灵敏度,进而可得到兼顾大量程和高灵敏的电流传感器。

天眼查资料显示,苏州矩阵光电有限公司,成立于2012年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本6020.33074万人民币。通过天眼查大数据分析,苏州矩阵光电有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标项目10次,财产线索方面有商标信息12条,专利信息213条,此外企业还拥有行政许可14个。

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来源:市场资讯

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