原创国产芯片设备：最强的是刻蚀机，最弱的是光刻机_电池资讯

创始人

2026-02-19 21:11:03

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大家都知道，在芯片制造过程中，芯片设备是至关重要的，且目前美国对中国芯片产业进行打压，主要也是针对设备。

比如EUV光刻机，高端的浸润式DUV光刻机，美国都不准ASML卖给中国，还有涉及到14nm及以下的其它设备，也同样不允许国外的企业卖给中国。

那么问题就来了，这么多芯片设备，中国最强的是哪一种，最弱的又是哪一种呢？

从目前的情况来看，最强的应该是刻蚀机了，因为它至少达到了3nm的水平。

国内最强的刻蚀机厂商，应该是中微公司，在全球芯片设备市场，中微公司目前排在第13位，而在技术方面，中微公司的水平至少是达到了3nm，甚至有可能是达到了2nm。

早在几年前，中微公司就打入了台积电的供应链，说明中微公司的刻蚀机，是全球领先且可靠的，否则台积电不会采用它的。

更重要的是，中微公司目前在零部件上，实现了100%的国产化，根本就不用担心国外不供应零部件，完全实现了自主可控。

而最弱的则是光刻机了，国内知名的光刻机公司是上海微电子，之前公布的光刻机技术还只达到90nm，还属于ArF光刻机的范畴，没有达到ArFi，也就是浸润式DUV光刻机的水平。

如果对照ASML的话，至少落后10年以上，所以光刻机，应该是技术相当最弱的。

这也是为何美国要卡住我们光刻机的原因，因为自己的实在落后太多，脖子一卡一个准，完全不可能实现国产替代。

我们知道，芯片制造设备，其实是遵循木桶理论的，即哪一样的技术最弱，那么哪一样就决定了我们的最强水平。

所以如果我们不能采用进口设备，只能使用国产设备的话，那么决定国产芯片最高工艺的，并不是刻蚀机，而是光刻机。

所以国产芯片设备，特别是光刻机，还是非常长的一段路要走，否则很难摆脱被卡脖子的命运，你觉得呢？

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