南大光电申请ArF光刻胶组合物及形成光刻图案的方法专利，EL更高
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2026-03-07 20:57:58
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国家知识产权局信息显示，宁波南大光电材料有限公司申请一项名为“ArF光刻胶组合物及形成光刻图案的方法”的专利，公开号CN121613679A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及ArF光刻胶组合物及形成光刻图案的方法，该ArF光刻胶组合物包括：ArF光刻胶树脂、光致产酸剂、淬灭剂、溶剂；所述ArF光刻胶树脂由第一树脂和第二树脂组成，所述第一树脂与第二树脂的重量比为90～97：3～10；所述第一树脂由第一酸敏单体、极性单体和内酯单体聚合而成；所述第二树脂由第二酸敏单体、极性单体和内酯单体聚合而成；所述第一酸敏单体的耐受温度高于临界值；所述第一酸敏单体的耐受温度低于临界值；所述临界值为95℃～105℃之间的数值；所述耐受温度为发生极性转变时的温度。将该ArF光刻胶组合物形成光刻图案，EL更高。
天眼查资料显示，宁波南大光电材料有限公司，成立于2018年，位于宁波市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本36733.19万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波南大光电材料有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目34次，专利信息150条，此外企业还拥有行政许可43个。
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来源：市场资讯
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