打破国外技术垄断 芯片核心材料制备难题攻克
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2026-05-14 09:26:39
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据报道，近日，依托2030新一代人工智能国家科技重大专项总体部署，上海人工智能实验室（上海AI实验室）联合厦门大学、苏州国家实验室等合作单位基于“书生”科学大模型与“书生”科学发现平台，构建了“AI决策+自动化合成”的闭环研发体系，实现了高纯度、高一致性、高效率的KrF光刻胶树脂创制。目前，上述平台已支撑多批次自动化合成与性能验证，批次间一致性得到显著提升。
这一突破使我国高端光刻胶树脂的稳定制备不再依赖于极少数国外供应商的“黑箱能力”，为全球芯片材料领域探索出一条可标准化、快速迭代的新路径。光刻胶是光刻工艺的核心耗材，其性能直接决定了芯片的制程精度和良率。光刻胶虽小，却是连接设计与制造的桥梁。没有它，芯片设计图永远无法变成现实；没有高端光刻胶，我们就无法制造出高端芯片。它是半导体产业自主可控必须攻克的一道防线。随着AI、高性能计算（HPC）对先进制程需求的拉动，以及2026年国产技术在KrF、ArF等高端领域的突破，光刻胶市场格局正在发生深刻变化。
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