卡尔蔡司申请用于调整投射曝光设备传感器方法专利，提供主传感器的最佳可能定向
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2026-06-24 13:25:00
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国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司SMT有限责任公司申请一项名为“用于调整投射曝光设备的至少一个传感器的方法以及投射曝光设备”的专利，公开号CN122270728A，申请日期为2024年11月。
专利摘要显示，本案说明揭露一种用于调整投射曝光设备(1)的至少一个传感器(23)的方法，该方法包含以下步骤：a)提供用于投射曝光设备(1)的至少一个主传感器(23)以及至少一个光学模块(21)，至少一个测量参考(22)配置在该光学模块(21)上，该主传感器(23)配置成检测该光学模块(21)和/或该测量参考(22)的定位和/或定向的变化和/或该主传感器(23)配置成检测该光学模块(21)和/或该测量参考(22)的定位和/或定向；b)使用该主传感器(23)执行测量，该光学模块(21)相对于该主传感器(23)移动，特别是移位、倾斜和/或旋转，和/或该主传感器(23)在测量期间相对于该光学模块(21)移动，特别是移位、倾斜和/或旋转；c)使用步骤b)中执行的测量来执行该主传感器(23)的最终调整，该主传感器(23)配置在最终定位和/或最终定向。本发明揭露所描述的方法是为了提供该主传感器的最佳可能定向。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
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