英特尔申请用于嵌入式桥结构的混合深度腔专利，公开涉及不同深度腔及不同厚度管芯设备
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2025-06-20 15:09:25
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金融界2025年6月20日消息，国家知识产权局信息显示，英特尔公司申请一项名为“用于嵌入式桥结构的混合深度腔”的专利，公开号CN120184101A，申请日期为2024年11月。
专利摘要显示，本公开涉及用于嵌入式桥结构的混合深度腔。本文中公开的实施例包括一种设备。在实施例中，所述设备包括衬底与衬底中的第一腔。在实施例中，第一腔具有第一深度。在实施例中，在衬底中提供第二腔，其中第二腔具有不同于第一深度的第二深度。在实施例中，第一管芯位于第一腔中，其中第一管芯具有第一厚度。在实施例中，第二管芯位于第二腔中，其中第二管芯具有不同于第一厚度的第二厚度。
来源：金融界
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