国家知识产权局信息显示,重庆赛宝工业技术研究院有限公司申请一项名为“一种用于芯片散热的Bi-In-Sn液态金属相变材料、制备方法及散热装置”的专利,公开号CN121826488A,申请日期为2026年1月。
专利摘要显示,本发明涉及散热材料技术领域,具体涉及一种用于芯片散热的Bi‑In‑Sn液态金属相变材料、制备方法及散热装置,技术要点为:液态金属相变材料按质量百分比由以下元素组成:Bi:42.0%—48.0%,In:33.0%—40.0%,Sn:12%—25%;制备方法为:称取Bi、In、Sn金属颗粒,并依次进行酸洗、超声清洗和烘干处理;在高纯氩气保护环境下,将预处理后的金属颗粒进行真空熔炼并搅拌,形成均匀的液态合金;待液态合金降温成型后再超声处理,制得Bi‑In‑Sn液态金属相变材料,达到在保持低熔点优势的同时实现了潜热性能的非预期提升,有效解决了极端环境下芯片瞬时热失控的瓶颈问题。
天眼查资料显示,重庆赛宝工业技术研究院有限公司,成立于2011年,位于重庆市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析,重庆赛宝工业技术研究院有限公司参与招投标项目655次,财产线索方面有商标信息2条,专利信息127条,此外企业还拥有行政许可12个。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
来源:市场资讯