京东方华灿光电申请晶体管及其制作方法专利，改善电流均匀性
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2026-05-09 09:49:56
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国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司申请一项名为“晶体管及其制作方法”的专利，公开号CN122002843A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本公开提供了一种晶体管及其制作方法，属于半导体技术领域。所述晶体管包括异质结、多个电极和连接结构，所述多个电极均与所述异质结电连接，且沿第一方向平行间隔布置；所述多个电极包括多个栅极、多个源极和多个漏极，所述多个电极中位于两侧的电极为所述源极，且任意相邻的两个所述源极之间依次布置有一个所述栅极、一个所述漏极和一个所述栅极；相邻两个所述漏极的一端通过第一连接结构相连；和/或；相邻两个所述栅极的一端通过第二连接结构相连，所述第一连接结构与所连接的所述漏极位于同一层，所述第二连接结构与所连接的所述栅极位于同一层。本公开可以改善电流均匀性，提升晶体管的性能。
天眼查资料显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司，成立于2014年，位于金华市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本380450万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（浙江）有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目42次，专利信息1040条，此外企业还拥有行政许可42个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
来源：市场资讯
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