盛吉盛半导体取得半导体工艺设备反应腔体漏率检测方法及装置专利
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2026-07-03 18:49:54
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国家知识产权局信息显示，盛吉盛半导体技术（上海）有限公司取得一项名为“半导体工艺设备反应腔体的漏率检测方法及装置”的专利，授权公告号CN115452280B，申请日期为2022年9月。
天眼查资料显示，盛吉盛半导体技术（上海）有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本15000万人民币。通过天眼查大数据分析，盛吉盛半导体技术（上海）有限公司专利信息46条，此外企业还拥有行政许可6个。
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