国家知识产权局信息显示,中科艾尔(北京)科技有限公司申请一项名为“一种用于半导体气路的多层源瓶”的专利,公开号CN121320908A,申请日期为2025年9月。
专利摘要显示,本发明公开了一种用于半导体气路的多层源瓶,所述多层源瓶至少包括:瓶身以及设置在所述瓶身内的多个支撑体,每个所述支撑体布置有多个凹槽,相邻两个凹槽之间形成凸出部,所述凹槽和凸出部交替设置在支撑体上;其中,所述凸出部包括一个第一凸出部和多个第二凸出部,所述第一凸出部上设置有一挡板和多个支撑体管,多个支撑体管均设置在挡板的同一侧。本发明通过增加凹凸槽,增加了每个支撑体与前驱体的接触面积,增加了前驱体的加热效率,有助于升华。同时通过增加运载气体的水平方向的上下颠簸,增加了运载气体的湍流。
天眼查资料显示,中科艾尔(北京)科技有限公司,成立于2008年,位于北京市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本964.221927万人民币。通过天眼查大数据分析,中科艾尔(北京)科技有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目24次,财产线索方面有商标信息5条,专利信息127条,此外企业还拥有行政许可4个。
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来源:市场资讯