新视界光电申请半导体薄膜晶体管制备方法专利，可有效提高半导体薄膜的刻蚀兼容性
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2026-01-31 22:41:15
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国家知识产权局信息显示，广州新视界光电科技有限公司申请一项名为“一种半导体薄膜晶体管及其制备方法”的专利，公开号CN121442746A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种半导体薄膜晶体管及其制备方法。该半导体薄膜晶体管的制备方法包括：提供一衬底；在衬底的表面形成层叠设置的半导体结晶层和栅极结构；其中，半导体结晶层由等离子体轰击法处理后刻蚀形成；形成源极和漏极；源极和漏极分别与半导体结晶层接触。本发明实施例采用等离子体轰击的方法对金属氧化物半导体薄膜进行处理，可使局部有序态薄膜转化为无序态薄膜，从而可有效提高半导体薄膜的刻蚀兼容性，实现高精度的图形化。
天眼查资料显示，广州新视界光电科技有限公司，成立于2010年，位于广州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本3358.3664万人民币。通过天眼查大数据分析，广州新视界光电科技有限公司参与招投标项目84次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息152条，此外企业还拥有行政许可3个。
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