兴福电子申请用于抑制金属铝蚀刻的蚀刻液专利，能减缓铝的腐蚀速度
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2026-02-01 00:08:57
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国家知识产权局信息显示，湖北兴福电子材料股份有限公司申请一项名为“用于抑制金属铝蚀刻的蚀刻液及应用”的专利，公开号CN121427527A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明涉及蚀刻技术领域，具体公开了一种用于抑制金属铝蚀刻的蚀刻液及应用，该蚀刻液含有按质量百分数计的以下原料：5~15%的氢氟酸，15%‑30%的氟化铵，0.1%‑2%的添加剂1，1%‑10%的添加剂2，余量为水；添加剂1为铝螯合剂；添加剂2为多元醇。在较高酸性的条件下，使氧化硅具有较高蚀刻速率的同时能抑制铝的蚀刻，同时溶液具有较低的表面张力，可用于不同结构的蚀刻场景。添加剂1会与铝表面进行螯合反应，相互作用形成螯合物后，能减缓铝的腐蚀速度。添加剂2与添加剂1具有协同作用，可进一步降低铝的蚀刻，同时可以降低体系的表面张力，增加溶液的浸润性与均一性，使溶液对不同的结构具有更强的适用性。
天眼查资料显示，湖北兴福电子材料股份有限公司，成立于2008年，位于宜昌市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本36000万人民币。通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目169次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息456条，此外企业还拥有行政许可287个。
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来源：市场资讯
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