北方华创申请工艺腔室和半导体设备专利，提高晶圆边缘区域外延膜层的均匀性和稳定性_电池知识

北方华创申请工艺腔室和半导体设备专利，提高晶圆边缘区域外延膜层的均匀性和稳定性

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2026-02-18 17:11:55

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国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“一种工艺腔室和半导体设备”的专利，公开号CN121548244A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本申请公开了一种工艺腔室和半导体设备，该工艺腔室包括腔体、托盘、预热环和环形内衬。其中：预热环环绕设置在托盘周围，且与托盘之间具有环形间隙；预热环的内部沿周向设置有第一流道，预热环的内侧立面沿周向设置有与第一流道连通的第一进气口；环形内衬环绕托盘设置，用于安装预热环，并设置有位置相对的工艺气体进气口和工艺气体出气口，以及与第一流道连通的第二流道；腔体设置有排气口；工艺气体出气口和第二流道的出气端均与该排气口连通。通过上述第一流道和第二流道能够将预热环和托盘边缘之间环形间隙中的保护气流引导至排气口，以减小甚至避免保护气流对外延工艺气流造成影响，从而提高晶圆边缘区域外延膜层的均匀性和稳定性。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1384次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业投资半导体华创设备外延工艺边缘专利区域腔室托盘环形流道

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