国家知识产权局信息显示,ASML荷兰有限公司申请一项名为“基于过程模型的扫描电子显微镜(SEM)图像失真校正”的专利,公开号CN121646738A,申请日期为2024年7月。
专利摘要显示,一种基于过程模型确定图像中的失真的方法,包括:基于图像中的多个测量位置与由过程模型生成的预测图像中的、与多个测量位置相对应的位置之间的关系,来确定图像变换操作;以及基于图像变换操作表征该图像中的图像失真。
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