四方光电获得实用新型专利授权：“一种气室加热结构及气体传感器”_电池资讯

四方光电获得实用新型专利授权：“一种气室加热结构及气体传感器”

创始人

2026-07-17 20:34:34

0次

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示四方光电（688665）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种气室加热结构及气体传感器”，专利申请号为CN202521360270.3，授权日为2026年7月17日。

专利摘要：本实用新型涉及气体传感器技术领域，公开了一种气室加热结构及气体传感器；气体传感器包括气室、电路板和气室加热结构；气室加热结构包括：至少一加热器，用于与电路板电连接；以及，导热膜，其一侧面适配的贴覆于气室的外壁上，其另一侧面的至少部分与加热器连接或抵接或紧邻，以使得加热器可通过导热膜加热气室。本实用新型通过在气室外部设置导热膜，并基于导热膜和加热器之间的相对位置关系，使得加热器可对导热膜进行加热，由于导热膜的导热效果较好，加热器的能量能够较好地传递至整个导热膜，导热膜也能够将能量更均匀地传导至气室中，使气室能够有温升，以解决气室内冷凝/结霜的问题。

今年以来四方光电新获得专利授权5个，较去年同期减少了66.67%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了1.3亿元，同比增14.63%。

通过天眼查大数据分析，四方光电股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目65次；财产线索方面有商标信息45条，专利信息226条，著作权信息23条；此外企业还拥有行政许可37个。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，不构成投资建议。

企业气体信息四方方面天眼传感器结构专利加热器气体传感器导热膜气室

上一篇：华微电子获得实用新型专利授权：“一种高压测试吸盘”

下一篇：比亚迪获得实用新型专利授权：“充电保护的控制电路和充电设备”

四方光电获得实用新型专利授权：“一种气室加热结构及气体传感器”

相关内容

热门资讯