甬矽半导体取得沉积抛光装置和清洁设备专利，提高反应腔侧壁的清洗效率和清洁效果
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2025-06-21 17:08:45
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金融界2025年6月21日消息，国家知识产权局信息显示，甬矽半导体（宁波）有限公司取得一项名为“沉积抛光装置和清洁设备”的专利，授权公告号CN222999226U，申请日期为2024年08月。
专利摘要显示，本申请提供的一种沉积抛光装置和清洁设备，涉及半导体设备清洁技术领域。该沉积抛光装置包括壳体、清洁台和清洁头，壳体设有容置槽；容置槽内设有排污孔。清洁台设于容置槽内，并与壳体固定连接；清洁台上设有导流孔，导流孔与排污孔连通。清洁头安装在清洁台上。有利于提高反应腔侧壁的清洗效率和清洁效果。
天眼查资料显示，甬矽半导体（宁波）有限公司，成立于2021年，位于宁波市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本400000万人民币。通过天眼查大数据分析，甬矽半导体（宁波）有限公司参与招投标项目33次，专利信息190条，此外企业还拥有行政许可14个。
来源：金融界
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