久吾高科取得半导体芯片研磨切割液废水再利用装置专利，获得去离子水_电池知识

久吾高科取得半导体芯片研磨切割液废水再利用装置专利，获得去离子水

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2026-01-28 18:12:40

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国家知识产权局信息显示，江苏久吾高科技股份有限公司取得一项名为“一种半导体芯片生产制造中研磨切割液废水再利用装置”的专利，授权公告号CN223837215U，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本实用新型涉及一种半导体芯片生产制造中研磨切割液废水再利用装置，具体涉及一研磨切割液废水回收硅粉和离子水的装置，属于水处理技术领域。包括：pH调节池，用于对废水的pH进行调节，并且还包括用于向pH调节池中加入酸液的酸液罐；陶瓷膜，用于对pH调节池中的废水进行过滤处理；板框压滤机，连接于陶瓷膜的截留侧，用于将陶瓷膜中获得的浓缩浆料进行固液分离获得硅粉废料；第一级反渗透膜，连接于陶瓷膜的渗透侧，用于对陶瓷膜的渗透液进行过滤处理；第二级反渗透膜，连接于第一级反渗透膜的渗透侧，用于对第一级反渗透膜的渗透液进行过滤处理，获得去离子水。

天眼查资料显示，江苏久吾高科技股份有限公司，成立于1997年，位于南京市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本12504.3424万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏久吾高科技股份有限公司共对外投资了17家企业，参与招投标项目353次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息359条，此外企业还拥有行政许可33个。

南京同畅新材料研究院有限公司，成立于2020年，位于南京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，南京同畅新材料研究院有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目1次，专利信息36条，此外企业还拥有行政许可4个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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