玄武石半导体申请隔离反激式高压原边采样电路专利，使得隔离反激式开关电源外部电路变得更为简单
创始人
2026-07-03 14:20:10
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国家知识产权局信息显示，玄武石半导体（武汉）有限公司申请一项名为“一种隔离反激式高压原边采样电路”的专利，公开号CN122339477A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本发明提供一种隔离反激式高压原边采样电路，该采样电路包括电流镜模块、逻辑模块Logic1、逻辑模块Logic2、采样开关电路。本发明能够通过逐周期检测输出电压的大小，将反馈信号转换为退磁信号，并根据退磁信号的大小在不同的退磁阶段完成对反馈信号的采集，采集的信号会存储到后级电容中。本专利所采用的原边采样解决了传统方法中采用光耦隔离占用板级面积、外部元器件过多，光耦使用限制系统板级电路寿命等缺点，使得隔离反激式开关电源外部电路变得更为简单，因此具有很高的实用价值和更低的经济成本。
天眼查资料显示，玄武石半导体（武汉）有限公司，成立于2019年，位于武汉市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，玄武石半导体（武汉）有限公司共对外投资了2家企业，财产线索方面有商标信息1条，专利信息13条，此外企业还拥有行政许可1个。
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