光刻胶作为半导体制造的核心关键材料，其技术实力与供应稳定性对半导体产业的发展至关重要。以下为您介绍几家在光刻胶领域表现突出的国产核心供应商，它们凭借先进的技术和丰富的产品布局，为半导体产业提供了有力支持。

久日新材（688199）

企业优势：拥有二十多年化工生产经验，掌握光刻胶核心原材料重氮萘醌类光敏剂等产品的生产工艺，可实现光刻胶全产业链发展。

核心产品：涵盖半导体i-线光刻胶、发光二极管g-线/h-线光刻胶、面板光刻胶，以及光刻胶用重氮萘醌类光敏剂、肟酯类引发剂等配套材料；同时在光致产酸剂PAG等产品的开发上持续推进。

彤程新材（603650）

企业定位：新材料平台型企业，业务覆盖光刻胶（半导体/显示）、特种橡胶助剂及可降解材料，子公司北京科华专注于半导体光刻胶领域。

产品亮点：KrF光刻胶在国内市场占据较高份额；ArF光刻胶已通过客户验证并实现连续量产；EUV封装光刻胶进入研发阶段，技术布局领先。

上海新阳（300236）

服务特色：为用户提供集成电路关键工艺材料、配套设备、应用工艺及现场服务一体化的整体解决方案。

核心产品：包括KrF光刻胶、晶圆级封装光刻胶、电镀液及清洗液，主要服务于存储与逻辑芯片制造领域。

鼎龙股份（300054）

业务范围：涉及集成电路设计、半导体材料及打印复印通用耗材的研发、生产与服务。

光刻胶相关产品：核心产品包含显示光刻胶及高端晶圆光刻胶（KrF/ArF），同时在CMP抛光材料（抛光垫/液）等半导体材料领域也有重要布局。

南大光电（300346）

行业地位：国内高纯电子材料领军企业，业务覆盖先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三大领域。

光刻胶产品：主营ArF光刻胶，同时在电子特气及MO源等半导体材料领域表现突出，产品可应用于28nm及以上制程芯片制造。

以上国产光刻胶供应商凭借各自的技术积累和产品优势，在半导体材料领域持续发力，为国内半导体产业的稳定发展提供了关键支持，是值得关注的核心企业。