AI芯片功率飙升,深圳聚峰塞孔铜浆工艺成破局关键
创始人
2026-03-21 05:50:09
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今年1月份,英伟达公布了最新一代罗宾(Rubin)GPU芯片,其单芯片功率高达2.3kW,是B200芯片的2.3倍,而未来的费曼(Feynman)GPU预计功率将提升至4400W,是B200芯片的4.4倍。

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英伟达GPU技术路线图 来源:行家说三代半

英伟达的GPU算力狂奔,AI服务器的功耗水涨船高,为了应对极高的功耗与传输速率需求,英伟达在GPU的OAM加速卡和UBB底部处导入了高密度多层板(HDI PCB),其层数高达20-30层。

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英伟达GB200采用HDI PCB

然而HDI PCB作为承载算力的物理基石,正在面临一场前所未有的材料挑战。HDI PCB通常可以实现直通过孔、盲孔、埋孔和微孔等不同类型的过孔,但是在导通孔的填充上,传统方案似乎陷入了两难:

  • 树脂塞孔导热差、导电差,成了散热链上的“肠梗阻”;
  • 而尝试引入TLPS(瞬态液相烧结)相关技术,又往往在后续回流焊中因热应力产生空洞和裂纹,可靠性大打折扣。

AI硬件迭代速度以“月”为单位的今天,有没有一种材料,既能“传热导电”,又能“稳如泰山”?

最近,聚峰(聚峰子公司:广东聚砺新材料有限公司)推出的JL-CS-F01塞孔铜浆,正是破局的关键。据介绍,这款产品具备多个显著优势,已经在国内多家头部PCB厂商进入测试验证阶段。

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聚峰-JL-CS-F01塞孔铜浆技术特点和优势

性能的“二象性”:

超低电阻率、超高导热率

如果说传统树脂塞孔是“绝缘体+隔热层”,那么聚峰塞孔铜浆JL-CS-F01则彻底颠覆了这一属性。

它并非简单的树脂改良,而是一款真正意义上的功能性导体浆料。其体积电阻率低至5-8×10-5Ω·cm,这意味着电流可以通过导通孔无缝穿梭于多层板之间,极大地降低了线路损耗和发热风险。

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更令人印象深刻的是其高达124 W/m·K的热导率。对于高密度的AI加速卡而言,这意味着一颗颗发热核心产生的热量,多了一条通过铜浆从垂直方向导出的“高速公路”,为整体热管理方案提供了全新的设计维度。

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聚峰JL-CS-F01塞孔铜浆参数

工艺的“黄金搭档”:

低温快固与完美匹配

在追求极致性能的同时,聚峰塞孔铜浆JL-CS-F01在工艺窗口上展现出了极高的“亲和力”。

它支持在170-180°C的低温环境下,仅需1小时即可完成快速固化。这不仅大幅提升了生产效率,降低了对设备能耗的要求,更关键的是——它有效减小了因高温固化带来的基板热应力。

同时,通过精确的收缩率控制,聚峰JL-CS-F01实现了与FR4及各类高频板材的完美匹配。无论是采用点胶工艺,还是印刷工艺,都能获得饱满、致密的填充效果。

可靠性的“终极考验”:

12次回流焊,0空洞0裂纹

实验室的数据再漂亮,也必须在客户的回流焊炉里走一遭。这正是聚峰塞孔铜浆JL-CS-F01最引以为傲的战场。

经过严苛的测试:在模拟实际生产环境的12次回流焊后,JL-CS-F01依然能够保持依然保持“0空洞、0裂纹”的完美状态。

下图为聚峰塞孔铜浆JL-CS-F01经过12次回流焊后,填充饱满、无空洞、无裂纹的实拍图。

HDI PCB的C-SAM图像(左)与切片图(右)

这意味着什么?意味着在AI服务器长期高负载运行的恶劣热循环下,PCB的内部连接依然坚如磐石。

正是这种极致的可靠性,让聚峰塞孔铜浆JL-CS-F01目前已在国内多家头部PCB厂商进入测试验证阶段,并获得了积极反馈。

设计的“灵活延伸”:

可焊锡的表层

对于工程师而言,好材料不仅要性能强,还要“好用”。

聚峰塞孔铜浆JL-CS-F01固化后的表面处理非常友好。它支持在固化的铜层上进行后续焊锡作业,这为产品的实际应用提供了极大的工艺灵活性,真正做到了“填得实、接得牢、焊得上”。

写在最后

AI硬件的竞赛,不仅是芯片制程的竞赛,更是底层材料和工艺的竞赛。

如果说GPU是AI算力的“大脑”,那么HDI板就是“神经网络”,而聚峰JL-CS-F01塞孔铜浆,正是打通这条网络关键节点的“催化剂”。

在高频、高速、高热的“三高”趋势下,聚峰塞孔铜浆JL-CS-F01不仅仅是一个产品,更是解决新一代电子互联难题的一个创造性方案。

如果您对这款产品感兴趣,或希望获取样品进行测试,欢迎联系聚峰:

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